近日，我院几何计算与智能媒体技术研究所的一项研究成果A Unified Framework for Simultaneous Layout Decomposition and Mask Optimization被计算机辅助设计领域顶级国际学术期刊TCAD（IEEE Transactions on Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems）录用。TCAD是集成电路与系统计算机辅助设计领域国际公认的最顶尖学术期刊，也是中国计算机学会（CCF）认定的A类期刊，对原创性以及算法方法等方面都有极高的要求，收录了所在领域的顶级研究成果。这也是我校软件工程学科在TCAD上发表的首篇论文。

该研究由我院副教授仲维、研究生虎舒翔与香港中文大学余备教授团队共同合作完成。在双掩模光刻过程中，基于掩模优化和布局分解目标不一致的问题，创新性地提出了考虑布局分解和掩模优化的统一优化框架。作者将布局中产生的掩模违规现象构建成违规图，并结合违规类型通过求解半定规划和随机舍入的近似算法来快速获取高质量布局分解候选，再配合逆光刻优化方法选择最优分解。同时，作者还考虑了不同工艺环境对掩模优化过程的影响，大幅度提升了所设计算法的工艺环境适应性和优化结果的鲁棒性。实验结果显示该框架在EPE（Edge Placement Error）和PV Band（Process Variation Band）等重要指标方面较以往技术均有大幅度提升。

大连理工大学几何计算与智能媒体技术研究团队依托辽宁省泛在网络与服务软件重点实验室和国际信息与软件学院。研究领域包括深度学习理论，视觉与媒体计算，网络安全与大数据隐私保护，电子设计自动化等方面。团队近3年来已经在IEEE TPAMI、TCAD、TIP、TNNLS、TCSVT、TMM、TPDS、NeurIPS、IJCAI、AAAI、CVPR、ICCV、ECCV、ACM MM、DAC等领域重要期刊及会议上发表论文达140余篇。